工作原理
高真空电子束蒸发
在高真空条件下，高能密度电子束轰击并加热靶材，在其表面形成稳定的熔池，使其达到气化状态。
靶材蒸气随后穿过真空室，在基片表面凝结，形成致密、高纯度的涂层，具有优异的附着力和可控的微观结构。
高真空环境确保涂层纯净度
精确电子束功率控制
稳定熔池确保蒸发速率一致
基底表面的均匀蒸汽冷凝
设备优势
五大核心能力
专为高功率、高通量涂层沉积而设计，可灵活处理复杂刀片几何形状及多材料系统。
4 × 100 kW 电子枪
四套100千瓦大功率间接加热电子枪系统，提供卓越的蒸发能力。
双阶段工件夹具
两级工件夹具托盘，支持连续上下料，最大化吞吐量。
共沉积的三大关键熔炉
三个独立坩埚支持多材料共沉积，构建复杂涂层结构。
多自由度沉积
先进多自由度沉积能力，确保复杂叶片几何结构的均匀涂层覆盖。
1000 毫米目标存储
最大目标材料存储量可达 1000 毫米，支持长时间连续生产。